采用磁控溅射及快速热氧化法在c-Al2O3基底制备出高质量的氧化钒薄膜。首先，分析结果表明所制备的氧化钒薄膜表面颗粒大小均匀，表面......

采用直流磁控溅射的方法分别在普通玻璃与硅片上制备了氧化钒薄膜, 在大气及真空氛围下分别对样品采取了退火处理, 测量了退火前后......

　　We prepared the vanadium oxide thin films on Si substrates by magnetron sputtering,using different substrate tempera......